氢氟酸腐蚀二氧化硅反应方程式

2017-5-17 20:45:59      点击:
氢氟酸对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。氢氟酸用氟气(F₂)溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片(与HNO3的混酸)。

图(1)高纯度二氧化硅

因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强,使得氢氟酸在水中不能完全电离。氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃(二氧化硅),生成气态的四氟化硅 反应方程式如下:
SiO₂(s) + 4 HF(aq) → SiF4↑ + 2 H₂O(l)
氢氟酸防腐蚀
图(2)耐氢氟酸防腐材料KN17高分子陶瓷聚合物不含硅
正因如此,它必须储存在塑料(理论上讲,放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好)、蜡质制或铅制的容器中。氢氟酸没有还原性。如果要长期储存,不仅需要一个密封容器,而且容器中应尽可能将空气排尽。

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